Silicon Carbide Wafer Thinning Machine används huvudsakligen för förtunning av substratmaterial som kiselwafer, galliumarsenid, kiselkarbidkeramik, zirkoniumkeramik, grafit, litiumtantalat och så vidare.
De vertikala skivslipmaskinerna med hög precision kan slipa tredje generationens halvledarmaterial som SiC, GaN, GaAs, Si, ZnO. DL-GSD-serien är en självtillverkad slipmaskin i Kina, och dess prestanda har nått världsstandarden.